研究人员发现了一种更快、更高效的 3D NAND 闪存深孔蚀刻方法，即使用先进的等离子工艺。通过调整化学工艺，他们使蚀刻速度翻倍，精度也得到提高，为实现更密集、更高容量的内存存储奠定了基础。 为了改进数据存储，研究人员正在完善三维 NAND 闪存 ...

3D NAND光刻胶产品简介 3D NAND光刻胶是一种特殊类型的光刻胶材料，用于制造 3D NAND闪存的光刻工艺。KrF是光刻中常用的光源（波长248 nm），用于在半导体制造工艺中较小的节点（通常低于 ...

快科技2月5日消息，3D NAND闪存的设计和制造非常依赖存储单元堆叠，由此可以大幅增加存储密度与容量，降低成本。 最近，来自Lam Research、科罗拉多 ...