金融界2025年1月21日消息，国家知识产权局信息显示，中广核俊尔（浙江）新材料有限公司申请一项名为“一种高耐候、高亮黑PMMA/ABS组合物及其制备方法”的专利，公开号CN 119264593 A，申请日期为2024年11月。 专利摘要显示，一种高耐候、高亮黑PMMA/ABS组合物，包括以下组分（重量百分比）PMMA树脂 ...