光学频率梳技术在精密测量、微波合成和天文光谱观测等领域应用广泛。早期的光频梳系统体积大且成本昂贵。当前的研究前沿之一在于如何将这一技术在芯片尺度上实现，从而推动更广泛的应用。借助晶体的电光效应实现微波驱动的光频拓展是集成光频梳的主要技术方案之一，但由于传统电光材料存在双折射过强以及传统的微波电路设计能量利用率低的问题，导致集成电光频率梳光谱带宽较低，限制了这一技术的实际应用。

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在科技迅猛发展的今天，新材料和新技术的创新成为推动电子设备性能提升的核心动力。金融界于2025年1月31日的报道揭示，华为技术有限公司申请了一项名为“MEMS器件及其制作方法、电子设备”的专利，公开号为CN119383540A，标志着该公司在微电子器 ...

研究初期，基于电子束曝光技术所制备的芯片在性能和稳定性方面存在明显不足。经过深入探索和反复试验，研究人员最终开发出 4 英寸的薄膜铌酸锂加工工艺。 这一工艺稳定高效，有效解决了芯片性能和稳定性问题，为调制器性能的提升奠定了坚实的基础。

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